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      LIBS激光誘導擊穿光譜分析儀

      簡要描述:LIBS激光誘導擊穿光譜分析儀不但適合實驗室使用,同樣適合工業設備的集成;強大的設計提供非常低的溫度影響,使其能夠承受惡劣的環境,同時可任意方向安裝,以任何想要的方向來對準樣品,不受場地及環境限制;

      • 產品型號:
      • 廠商性質:代理商
      • 更新時間:2025-03-18
      • 訪  問  量:5716
      詳細介紹
      品牌其他品牌應用領域醫療衛生,環保,石油,地礦,能源

       

      LIBS是Laser-Induced Breakdown Spectroscopy (激光誘導擊穿光譜儀)的簡稱,該技術通過超短脈沖激光聚焦樣品表面形成等離子體,利用光譜儀對等離子體發射光譜進行分析,以此來識別樣品中的元素組成成分,進而可以進行材料的識別、分類、定性以及定量分析。

       

      自從LIBS技術問世以來,該技術就被*為是一種前景廣闊的新技術,將為分析領域帶來眾多的創新應用。LIBS作為一種新的材料識別及定量分析技術,既可以用于實驗室,也可以應用于工業現場的在線檢測;

       

      LIBS彌補了傳統元素分析方法的不足,尤其在微小區域材料分析、鍍層/薄膜分析、缺陷檢測、珠寶鑒定、法醫證據鑒定、粉末材料分析、合金分析等應用領域優勢明顯,同時,LIBS還可以廣泛適用于地質、煤炭、冶金、制藥、環境、科研等不同領域的應用。

       

      除了傳統的實驗室的應用,LIBS還是為數不多的可以做成便攜裝置的元素分析技術,更是目前為止被認為可以做在線分析的元素分析技術。這將使分析技術從實驗室領域極大地拓展到戶外、現場、甚至生產工藝過程中;

       

      Spectral Industries 推出的全新時間門控LIBS測量系統,是一套高效,功能強大,通用型強的LIBS測量系統,無論在實驗室或戶外操作,均可*應對各種測試環境,甚至其IRIS 光譜儀可用于空間環境!

      LIBS激光誘導擊穿光譜分析儀具有如下特點及優勢: 

      超高數值孔徑(F/2)基于*設計的IRIS 中階梯光柵光譜儀的其LIBS系統可以獲得優于其他對手的優質信噪比;

      使用中階梯光譜儀: 兼顧高分辨率(0.1-0.4nm)及寬的光譜覆蓋范圍180-800nm,880-1100nm

      配備高效光學激光聚焦及信號收集系統:可以獲得更低的探測極限以及更短的積分時間;

      使用優選的全自動控制的激光源以及3軸電動位移臺: 軟件全自動控制,協調工作,同時保持OEM定制靈活性;

      <10ns 精確時延抖動: 有效避免韌致輻射背景噪聲干擾;

      靈活小巧一體化的設計:不但適合實驗室使用,同樣適合工業設備的集成;強大的設計提供非常低的溫度影響,使其能夠承受惡劣的環境,同時可任意方向安裝,以任何想要的方向來對準樣品,不受場地及環境限制;

       LIBS激光誘導擊穿光譜分析儀

      Spectral Industries 的全套LIBS 系統包括:

      IRIS 中階梯光柵光譜儀

      納秒脈沖主動調Q激光器

      用于門控LIBS 測量的脈沖延遲發射器

      激光聚焦及信號收集光學系統

      自動控制-3軸電動位移臺

      軟件全硬件控制,Matlab數據處理作圖;

      ?

      LIBS 系統(未包括譜儀及樣品臺)

       IRIS 中階梯光譜儀

      SPECTRAL LIBS 系統指標參數

      光譜儀

      IRIS UV(200-800nm)or IRIS-DUV(氮氣吹掃180-800nm,880-1100nm)

      光譜儀

      光學系統

      高效激光聚焦及信號收集光學系統

      激光器

      可選擇不同單脈沖能量及頻率的 主動調Q 納秒脈沖激光器

      脈沖延遲發生器

      <10 ns抖動 ,100ns 時間延遲步距調整

      位移臺

      3軸電動位移臺,50*50mm移動范圍;(其他尺寸可選)

      氣體吹掃

      吹掃接口閥門適用于深紫外測試:<200nm波段;

      工作距離

      > 50-500 mm (更大距離可選)

      激光聚焦光斑尺寸

      <=100 µm

       

      IRIS 中階梯光譜儀參數指標

      光譜范圍

      180 - 800 nm and 880-1100nm (包括吹掃選項)

      光譜分辨率

      0.1 - 0.45 nm (@ 180-800 nm, for 25 µm wide slit)

      F-數值孔徑

      f/2

      狹縫尺寸

      25 x 100 µm(其他尺寸可選: 10 x 100 µm2 and 50 x 100 µm2) 

      波長穩定性

      < 5 pm/K

      尺寸

      220 x 195 x 80 mm3 (包括相機)

      重量

      3 kg (包括相機)

      相機

      CMOS 探測器 (深紫外增強型),積分時間28 µs – 30 s

       

      LIBS 系統元素探測極限(部分)

        

      典型現場應用案例

       

      實驗室礦石表面Mapping分析

      --鉆孔巖心棒元素分布2D圖譜

       

      --鋰礦巖石表面元素分布圖

       


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